Die Erfinder Erik Loopstra und Vadim Banine von ASML/Zeiss erhielten mit ihrem Verfahren zum Ätzen geometrischer Muster auf Siliziumwafern den Publikumspreis beim European Inventor Award 2018. An der heutigen Preisverleihung in Paris nahmen rund 600 Gäste aus den Bereichen Politik, Wirtschaft, geistiges Eigentum und Wissenschaft teil. Die beiden Erfinder und ihre Teams bei ASML und Zeiss entwickelten ein Produktionssystem für die extrem ultraviolette Lithographie (EUVL) für kleinere, schnellere und leistungsfähigere Halbleiter.
Das öffentliche Votum für Erik Loopstra und Vadim Banine würdigt ihren Beitrag zur Gestaltung der Zukunft der Computerchip-Produktion“, sagte Präsident Benoît Battistelli vom Europäischen Patentamt (EPA) in München. „Kleinere, leistungsfähigere Mikrochips werden wahrscheinlich die Entwicklung in den Bereichen Unterhaltungselektronik, autonomes Fahren und Künstliche Intelligenz vorantreiben. Wir können erkennen, wie der europäische Fortschritt in der Chiptechnologie einen großen Einfluss auf die digitale Wirtschaft haben kann.“

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Über den Autor

Author profile picture Bart Brouwers ist Mitbegründer und Miteigentümer von Media52 BV, dem Herausgeber von innovationorigins.com.