© ASML / Bart van Overbeeke
Author profile picture

Chipmachinemaker ASML uit Veldhoven heeft zijn eerste klant gevonden voor de volgende fase in EUV-systemen, met hogere productiemogelijkheden, nog meer precisie, en kleinere transisterkenmerken. Intel heeft aangekondigd zijn eerste aankooporder te plaatsen voor ASML’s TWINSCAN EXE:5200 systeem, waarmee de volgende stap wordt gezet op weg naar de introductie van EUV 0,55 NA (High-NA). Het systeem zal naar verwachting in 2025 worden geleverd.

Het EXE-platform is een evolutionaire stap in de EUV-technologie en omvat een nieuw optisch ontwerp en aanzienlijk snellere dradenkruisen en wafertrappen. De systemen bieden een numerieke apertuur van 0,55 – een precisiestijging ten opzichte van vorige EUV-machines met een lens met een numerieke apertuur van 0,33 – om patroonvorming met een hogere resolutie mogelijk te maken, wat resulteert in nog kleinere chips. De numerieke apertuur van het systeem, in combinatie met de gebruikte golflengte, bepaalt het kleinste afdrukbare kenmerk. Met de aankooporder kondigden ASML en Intel de nieuwste fase aan van hun langdurige samenwerking op het snijvlak van halfgeleiderlithografietechnologie.

Moore

Het TWINSCAN EXE:5200-systeem is een extreem ultraviolet (EUV) hoog-volume productiesysteem met een hoge numerieke apertuur en een productiviteit van meer dan 200 wafers per uur. ASML President en CTO Martin van den Brink zegt dat Intel’s vroege verbintenis met ASML’s High-NA EUV-technologie “een bewijs is van haar niet-aflatende streven” naar de Wet van Moore.

“Vergeleken met de huidige EUV-systemen, levert onze innovatieve uitgebreide EUV-roadmap voortdurende lithografische verbeteringen tegen lagere complexiteit, kosten, cyclustijd en energie die de chipindustrie nodig heeft om betaalbare schaalvergroting tot ver in het volgende decennium te stimuleren.”

Transistorinnovaties

Intel kondigde op zijn Accelerated-evenement in juli aan dat het van plan is de eerste High-NA-technologie in te zetten om zijn routekaart van transistorinnovaties mogelijk te maken. De onderneming kocht als eerste het eerdere TWINSCAN EXE:5000-systeem in 2018, en met de nieuwe aankoop die vandaag is aangekondigd, vervolgt de samenwerking het pad voor Intels productieproductie met High-NA EUV vanaf 2025.

Dr. Ann Kelleher, executive vice-president en general manager van Technology Development bij Intel: “Onze focus is om voorop te blijven lopen in de technologie voor halfgeleiderlithografie en we hebben het afgelopen jaar onze EUV-expertise en -capaciteit opgebouwd. In nauwe samenwerking met ASML zullen we High-NA EUV’s hoge-resolutie patterning inzetten als een van de manieren om de Wet van Moore voort te zetten en onze sterke geschiedenis van progressie tot in de kleinste geometrieën te behouden.”

EUV 0,55 NA is ontworpen om meerdere toekomstige nodes mogelijk te maken, te beginnen in 2025 als eerste toepassing in de industrie, gevolgd door geheugentechnologieën met vergelijkbare dichtheid. ASML verwacht dat de High-NA technologie in 2025 de productie zal gaan ondersteunen.

Hogere vraag

ASML’s netto-omzet over het vierde kwartaal – ook vandaag bekendgemaakt – kwam zoals verwacht uit op € 5,0 miljard. De brutomarge van 54,2 procent is hoger dan verwacht als gevolg van sterke Installed Base-inkomsten. De nettoboekingen voor het vierde kwartaal kwamen uit op € 7,1 miljard. De totale netto-omzet voor het jaar bedroeg € 18,6 miljard, inclusief € 6,3 miljard uit 42 EUV-systemen.

“Voor ASML was 2021 een sterk groei-jaar in een dynamische omgeving”, aldus ASML President en Chief Executive Officer Peter Wennink. “We ervaren een hogere vraag naar onze systemen dan onze productiecapaciteit kan opvangen. De zeer sterke vraag in eindmarkten zet onze klanten onder druk voor meer wafer output. Om onze klanten te ondersteunen, bieden we hen upgrade-oplossingen met een hoge productiviteit voor hun geïnstalleerde basis en verkorten we de cyclustijd in onze fabriek om meer systemen te kunnen verschepen. Een van de manieren om de cyclustijd te verkorten is door een snel verzendingsproces waarbij sommige tests in onze fabriek worden overgeslagen. De eindtests en de formele acceptatie vinden dan plaats bij de klant. Dit leidt tot een uitstel van de omzetverantwoording voor deze zendingen tot de formele aanvaarding door de klant, maar biedt onze klanten wel eerder toegang tot de waferproductiecapaciteit.”  

Voor 2022 verwacht ASML een omzetgroei van ongeveer 20 procent.

Lees via deze link meer over ASML

Steun ons!

Innovation Origins is een onafhankelijk nieuwsplatform, dat een onconventioneel verdienmodel heeft. Wij worden gesponsord door bedrijven die onze missie steunen: het verhaal van innovatie verspreiden. Lees hier meer.

Op Innovation Origins kan je altijd gratis artikelen lezen. Dat willen we ook zo houden. Heb je nou zo erg genoten van de artikelen dat je ons een bedankje wil geven? Gebruik dan de donatie-knop hieronder:

Doneer

Persoonlijke informatie