Ingenieur Erik Loopstra en de Nederlands-Russische natuurkundige Vadim Banine zijn genomineerd voor de jaarlijkse uitvindersprijzen van het in München gevestigde Europees Octrooibureau (EOB). De twee ASML-onderzoekers zijn genomineerd voor hun rol bij de ontwikkeling van microchipfabricage en specifiek de Extreme Ultraviolet Lithography (EUV).

EUV etst met hoogenergetische lasers details op nanoschaal in silicium-wafers voor de productie van microchips. De techniek bespaart chipmakers tijd en geld in de productie van de volgende generaties microchips die innovaties op het gebied van consumentenelektronica, gezondheid, entertainment, zelfrijdende auto’s, robotica en kunstmatige intelligentie mogelijk moeten maken. De European Inventor Awards van het Europees Octrooibureau worden 7 juni bekendgemaakt.

De prestigieuze innovatieprijzen omvatten vijf categorieën en in totaal 15 finalisten. Erik Loopstra en Vadim Banine zijn genomineerd in de categorie ‘Industrie’.

Luister nu naar De IO Show!

Elke week het nieuws van Innovation Origins in je oren!

Microchips zijn overal, we maken er op elk moment van de dag en nacht gebruik van met onze computers, smartphones en apparaten. Microchips moeten ook steeds meer kunnen; om de twee jaar verdubbelt de capaciteit – gemeten in termen van de dichtheid van de transistors op één microchip. Geïntegreerde schakelingen zijn gegroeid van duizenden transistors in de jaren zeventig, naar miljarden schakelingen op hetzelfde oppervlak. Een van de belangrijkste aanjagers van deze ontwikkeling is fotolithografie, dat laserlicht gebruikt om geometrische structuren op siliciumschijven te ‘etsen’.

Fysicus Vadim Banine en systeemengineer Erik Loopstra werken samen met hun onderzoeks- en engineeringteams al twee decennia bij ASML, ’s werelds grootste producent van lithografiesystemen, aan de volgende generatie microchips. Loopstra is al meer dan 25 jaar systeemengineer bij ASML en studeerde werktuigbouwkunde aan de Technische Universiteit Delft. Momenteel werkt Loopstra aan de volgende generatie optische systemen voor EUV bij ASML-leverancier ZEISS in Duitsland. Banine deed twee jaar postdoctoraal onderzoek aan de Technische Universiteit Eindhoven (TU/e), waar hij ook promoveerde. In 1996 ging hij bij ASML werken. Sindsdien past hij zijn wetenschappelijke inzichten toe op het realiseren van technologische doorbraken in EUV. Loopstra en Banine hebben beide tientallen patenten op hun naam staan.

Patenthouder ASML is ‘s werelds grootste producent van lithografiesystemen met een geschat marktaandeel van 85 procent over het afgelopen jaar in termen van inkomsten. In 2017 bood het beursgenoteerde ASML werkgelegenheid aan zo’n 19.200 mensen wereldwijd, waarvan er alleen al meer dan 4000 werkten aan de EUV-technologie.

Foto (c) Norbert van Onna