Onderzoeksinstituut imec gaat ASML helpen om EUV-lithografie klaar te stomen voor de bredere chipindustrie. EUV is een veelbelovende technologie die gebruik maakt van extreem ultraviolet licht (EUV) om op een efficiëntere manier geavanceerde microchips te maken. Met deze samenwerking wil imec, dat het hoofdkantoor in Leuven heeft maar een belangrijke nevenvestiging op de High Tech Campus Eindhoven, zijn toppositie in onderzoek naar de volgende generatie chiptechnologie bevestigen. En ASML kan hierdoor ook in de toekomst steunen op imecs essentiële expertise bij de verdere realisatie van hun meest vooruitstrevende lithografiesystemen.
Lees hier meer over imec — Lees hier meer over ASML
Imec is een mondiaal toonaangevend onderzoeks- en innovatiehub op het vlak van nano-elektronica en digitale technologie; ASML is ’s werelds belangrijkste ontwikkelaar en leverancier van lithografiesystemen voor chipproductie. De samenwerking tussen ASML en imec bestaat al bijna 30 jaar. In 2014 werd de strategische samenwerking naar een hoger niveau getild met de oprichting een gemeenschappelijk onderzoekscentrum, het Advanced Patterning Center, om lithografietechnologie te optimaliseren. Die samenwerking wordt nu verder uitgebreid. In de loop van 2019 zal ASML in de imec cleanroom één van hun meest geavanceerde EUV scanners (NXE:3400B) installeren. Op die manier krijgen de imec-onderzoekers en partners toegang tot de nieuwste technologie voor EUV-lithografie. Met een vermogen van 250 Watt behaalt het toestel bovendien een lang beoogd streefdoel in productiviteit van 125 wafers (siliciumschijven waarop microchips worden geproduceerd) per uur, wat deze nieuwste generatie EUV lithografietoestellen geschikt maakt voor de massaproductie van chips. Ter vergelijking: bij de eerste generatie NXE:3300 toestellen lag het aantal wafers dat verwerkt wordt op 21 per uur. Door intensief gezamenlijke onderzoek zijn ASML en imec erin geslaagd om hier de noodzakelijke vooruitgang te boeken.
Luc Van den hove, algemeen directeur en CEO imec: “Onze cleanroom is één van onze grootste troeven voor de wereldwijde chipindustrie, maar om relevant te blijven is het essentieel dat we beschikken over geavanceerde systemen. Wat betreft lithografie is ASML de onbetwistbare leider. De afgelopen jaren hebben onze onderzoekers samen baanbrekend werk geleverd om efficiënte EUV-scanners mogelijk te maken. Dat wij dit toestel nu ook in onze cleanroom ter beschikking kunnen stellen is een belangrijke meerwaarde voor onze partners en bestendigd onze relevantie voor de chipindustrie.”
Daarnaast wordt de samenwerking met ASML ook uitgebreid met een gemeenschappelijk onderzoekslab in Veldhoven. Daar zullen onderzoekers van imec en ASML experimenteren met een volgende generatie van EUV-lithografie die noodzakelijk is om de basisbouwblokken van chips, transistoren, nog kleiner te maken en dus nog krachtiger chips te bouwen dan vandaag mogelijk is. Dit onderzoek zal gebeuren op een nieuw EUV-lithografiesysteem met hogere Numerische Apertuur (NA). Omdat systemen met een hogere NA het EUV-licht vanuit een bredere invalshoek kunnen projecteren op de wafer, kunnen ze nog fijnere patronen creëren.
Martin van den Brink, President & Chief Technology Officer bij ASML: “Toegang tot de meest geavanceerde halfgeleiderlithografietools is van vitaal belang voor het verkennen en bepalen van weg naar toekomstige generaties van halfgeleiderapparaten en -toepassingen. Imecs onderzoekers en klanten kunnen nog vele jaren zeker zijn van de meest actuele holistische lithografietechnologie. De halfgeleiderindustrie en consumenten en bedrijven over de hele wereld zullen profiteren van de vruchten van het werk van imec in het komende decennium, resulterend in voortdurende verbeteringen in de kosten en prestaties van microchips.”
Als je dit artikel leuk vindt, lees dan ook:
